產(chǎn)品名稱：丙烯酸酯修飾二氧化硅SiO2納米粒子的合成

產(chǎn)品描述：

丙烯酸酯修飾二氧化硅SiO2納米粒子的合成? 丙烯酸酯修飾SiO2納米粒子合成反應(yīng)原理及基團(tuán)結(jié)構(gòu)見圖1，在反應(yīng)中,由于TDI大大過量,反應(yīng)活性較高的對(duì)位NCO基團(tuán)與硅羥基(OH)反應(yīng)而保留活性較低的鄰位NCO基團(tuán)。圖2是SiO2、SiO2-TDI和 SiO2-HPA 的紅外光譜圖。在圖2中,曲線a是SiO2的紅外光譜,它的吸收峰相對(duì)簡(jiǎn)單,其中 810 cm-1是Si o鍵的對(duì)稱振動(dòng)吸收峰,1106 cm-1是Si o鍵的不對(duì)稱振動(dòng)吸收峰,1639 cm-1和 3444 cm-1是SiO2表面羥基伸縮振動(dòng)吸收峰。曲線b是SiO2-TDI的紅外光譜,2273 cm-1吸收峰是SiO2-TDI表面NCO 基團(tuán)的特征吸收峰，1653 cm-1、1545 cm-1是反應(yīng)生成氨基甲酸酯(- CONH )的特征吸收峰113，1605 cm-1和1472 cm-1是TDI分子中苯環(huán)的吸收峰。這些都有力地表明TDI與 SiO2表面羥基(OH)確實(shí)發(fā)生了化學(xué)反應(yīng),TDI 以化學(xué)鍵形式鍵接到SiO2表面并保留一個(gè)未反應(yīng)的NCO基團(tuán)。曲線c是siO2-HPA的紅外光譜,與曲線b相比,曲線c中在 2270 cm-'左右NCO基團(tuán)的特征吸收峰消失,這說明SiO2-TDI表面NCO基團(tuán)與HPA中的羥基發(fā)生了化學(xué)反應(yīng);同時(shí)在1713 cm-1出現(xiàn)一個(gè)新的吸收峰,這是丙烯酸羥丙酯中炭基的吸收峰。同時(shí)還可以發(fā)現(xiàn),曲線c中 1653cm-1、1545 cm-1處的吸收強(qiáng)度加強(qiáng),這是由于SiO2 TDI表面NCO基團(tuán)與丙烯酸羥丙酯反應(yīng)生成另一個(gè)氨基甲酸酯( CONH )，從而使得1653 cm-1、1545 cm-1處吸收強(qiáng)度加強(qiáng)。這些都有力地表明SiO2-TDI表面的NCO基團(tuán)與丙烯酸羥丙酯發(fā)生了化學(xué)反應(yīng),成功地將丙烯酸酯鍵接到SiO2粒子表面。圖1丙烯酸酯修飾SiO2納米粒子合成?圖2 SiO2( a)，SiO2TDI ( b)和丙烯酸酯修飾SiO2( c)的紅外光譜圖? 采用價(jià)格低廉的TDI對(duì)納米SiO2表面進(jìn)行修飾,進(jìn)而與HPA反應(yīng)合成丙烯酸酯修飾 SiO2納米粒子,在此基礎(chǔ)上納米粒子與聚丙烯熔融共混制備出綜合性能的PP/ SiO2納米復(fù)合材料。? 表面接枝丙烯酸酯大大了有機(jī)聚合物與無機(jī)納米粒子的界面相容性,降低了表面能,了納米粒子團(tuán)聚,使納米粒子均勻地分散在聚丙烯中,增韌補(bǔ)強(qiáng)目的。結(jié)果表明,納米SiO2的加入對(duì)納米復(fù)合材料沖擊強(qiáng)度有很的影響,在適宜含量為3.5wt%時(shí),其沖擊強(qiáng)度了9倍左右。齊岳供應(yīng)相關(guān)產(chǎn)品：二硫鍵修飾的介孔二氧化硅微球熒光二氧化硅納米顆粒氨基修飾的熒光二氧化硅納米顆粒(NH2-FSNPs)環(huán)氧基修飾周期性介孔有機(jī)氧化硅磺酸基修飾的納米Fe3O4包覆二氧化硅顆粒烷烴修飾SiO2納米顆粒彈性體修飾納米SiO2粒子改性PBT納米SiO2改性PP納米二氧化硅改性紫外光固化涂料米級(jí)SiO2改性氯化聚乙烯(CPE)納米SiO2改性聚酰亞胺納米SiO2改性白乳膠納米二氧化硅改性脲醛樹脂納米二氧化硅改性丙烯酸樹脂SiO2改性的V2O5-MoO3/TiO2催化劑二氧化硅改性熱固性聚酰亞胺SiO2改性釩鎢鈦催化劑納米SiO2改性環(huán)氧涂層海洋腐蝕規(guī)律SiO2改性MCM-22分子篩上聯(lián)苯納米二氧化硅改性的兩性離子星形丙烯酰胺共聚物P(AM-co-DMMPPS-co-NSFM)zl 03.04 相關(guān)目錄： 齊岳生物提供APTES修飾Fe3O4磁性納米粒 環(huán)糊精功能化修飾納米銀負(fù)載姜黃素|水

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